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中村到货:日本ORC臭氧发生模块ARV-M300D/A 兼容多种应用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技术,适用于多种半导体制造场景。 宽频谱光刻:具备宽带曝光功能,可根据配方自动切换 GHI 线、GH 线、I 线,满足不同光刻工艺对波长的需求。
中村现货:日本ORC臭氧发生模块ARV-M100D/A 兼容多种应用:可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技术,适用于多种半导体制造场景。 宽频谱光刻:具备宽带曝光功能,可根据配方自动切换 GHI 线、GH 线、I 线,满足不同光刻工艺对波长的需求。
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